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    “中國芯”關鍵材料國產化

    三乙矽烷基胺 （TDSA）
    • 中文名：三乙矽烷基胺
    • 英文名：Trisdisilanylamine
    • CAS號：14635-45-1
    • 純度：≥98.0%
    • 用途：通過化學氣相沉積（CVD）或原子層沉積（ALD）形成含矽薄膜
    • 規格：公斤級
    1，1，1-三（二甲氨基）乙矽烷 （TADS）
    1，1，1-三（二甲氨基）乙矽烷 （TADS）
    • 中文名：1，1，1-三（二甲氨基）乙矽烷
    • 英文名：1，1，1-Tris(dimethylamino)disilane
    • CAS號：2273763-87-2
    • 純度：≥99.0%
    • 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成高密度氧化矽
    • 規格：公斤級
    二異丙氨基乙矽烷 （DPDS）
    • 中文名：二異丙氨基乙矽烷
    • 英文名：Diisopropylaminodisilane
    • CAS號：151625-25-1
    • 純度：≥99.0%
    • 用途：通過氣相沉積形成晶種層
    • 規格：公斤級
    1，1-二氯-1-二異丙氨基乙矽烷 （DCDADS）
    • 中文名：1，1-二氯-1-二異丙氨基乙矽烷
    • 英文名：1，1-Dichloro-1-diisopropylaminodisilane
    • CAS號：2152681-89-3
    • 純度：≥99.0%
    • 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化矽
    • 規格：公斤級
    五氯乙矽烷 （PCDS）
    • 中文名：五氯乙矽烷
    • 英文名：Pentachlorodisilane
    • CAS號：31411-98-0
    • 純度：≥99.0%
    • 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化矽
    • 規格：公斤級
    1，1，1-三氯乙矽烷 （3CDS）
    • 中文名：1，1，1-三氯乙矽烷
    • 英文名：1，1，1-Trichlorodisilane
    • CAS號：78228-96-3
    • 純度：≥99.0%
    • 用途：通過等離子體加強原子層沉積（PEALD）形成氮化矽
    • 規格：公斤級
    2，2，4，4-四甲矽烷基戊矽烷 （BNS）
    • 中文名：2，2，4，4-四甲矽烷基戊矽烷
    • 英文名：2，2，4，4-Tetrasilylpentasilane
    • CAS號：1668602-96-7
    • 純度：≥98.0%
    • 用途：在低溫通過化學氣相沉積（CVD）快速形成外延矽和多晶矽
    • 規格：公斤級
    新戊矽烷（NPS）
    • 中文名：新戊矽烷
    • 英文名：Neopentasilane
    • CAS號：15947-57-6
    • 純度：≥99.0%
    • 用途：在低溫通過化學氣相沉積（CVD）快速形成外延矽和多晶矽
    • 規格：公斤級
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